STR-MTF60-12-4小型滑动式PECVD系统

产品型号：STR-MTF60-12-4小型滑动式PECVD系统

电炉类型：高温管式炉

电炉规格：

加热温度：1200

电炉系列：赛特瑞电炉

应用范围：STR-MTF60-12-4小型滑动式PECVD系统是由STR-MTF60-12滑动式管式炉、高真系统、射频电源系统及流量控制系统组成。。

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产品简介 / Introduction

STR-MTF60-12-4小型滑动式PECVD系统是由STR MTF60-12滑动式管式炉、高真系统、射频电源系统及流量控制系统组成。

PECVD小型滑动开启式管式炉系统通过滑动炉体来实现快速的升降温，配置不同的真空系统来达到需要的真空度；同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择。

PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点；

主要用途：

小型滑动式PECVD系统可用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

主要技术参数

电炉名称	小型滑动式PECVD系统（STR-MTF60-12-4滑动式管式炉PECVD系统）
炉体结构	双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温；炉子底部装有一对滑轨，移动平稳炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却炉盖可开启，可以实时观察加热的物料
电源	电压：AC220V 50、60Hz；功率：4KW
炉管	高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小尺寸：Φ60*1250mm
法兰及支撑	SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合
加热系统	加热元件采用掺钼的铁铬铝合金加热丝(OCr27Al7Mo2)，加热温度可达1200℃。表面负荷高、经久耐用加热区长度：270mm 恒温区长度：100mm 工作温度：≤1150℃ 设计温度：1200℃ 升温速率：10℃/min
温控系统	温度控制采用人工智能温控仪表，具有PID调节、自整定功能 30段升降温程序测温元件：K型热电偶恒温精度：±1℃
混气系统	四路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀管路采用304不锈钢管，接口为Φ6卡套每路气体进气管路配有不锈钢针阀通过控制面板上的旋钮来调节气体流量流量规格：0~200sccm 流量精度：±1.5%
高真空真空系统	采用双级旋片真空泵+分子泵，极限真空可达4.0*10^-4Pa 复合真空计，配置电阻规+电离规抽速：110L/S 冷却：风冷电源:AC220V 50、60Hz
射频电源系统	输出功率:0-300W 功率稳定度：±0.1% 射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005% 蕞大反向功率:120W 射频电源电子输出端口:UHF 冷却:风冷电源:AC187-253V 50、60Hz
可选配件	混气系统,中、高真空系统，各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪。

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