产品详情

实验室小型CVD化学气相沉积炉由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。小型CVD化学气相沉积炉可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

小型cvd系统有小型双温区管式炉CVD系统、小型滑动管式炉CVD系统、二通道混气CVD系统 、三通道混气CVD系统 、集成式小型CVD系统。

主要用途：

实验室小型CVD化学气相沉积炉可用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

结构特点：

1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，真空度可达0.0001Pa；

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的稳定性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；

5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用稳定可靠。

主要技术参数：

STR TF60-1200	控温方式	采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能， 并可编制30段升降温程序。
	加热元件	0Cr27Al7Mo2
	炉管材质	高纯石英
	炉管尺寸	Φ60,可选Φ60、Φ80、Φ100*1000mm
	工作温度	≤1150℃
	设计温度	1200℃
	恒温精度	±1℃
	加热区长度	440mm或220mm/220mm
	升温速度	≤20℃/min
	工作电源	AC220V    50HZ/60HZ
	额定功率	4KW
ZK-F真空系统	真空范围	0.1-0.001Pa
	极限真空	4.0*10^-4Pa
	产品配置	双级旋片真空泵+分子泵
	测量方式	复合真空计
	真空规管	电阻规+电离规
	冷却方式	风冷
	工作电源	AC220V 50/60HZ
	抽速	110L/S
ZDFC-Ⅲ 压强控制仪	测量范围	5～1*10^-5 Pa
	稳压(真空)范围	1～5*10^-3Pa
	压力(真空)稳定精度）	±3%
	控制范围	2.5*10^3～1*10^-4 Pa
	控制精度	± 1%
HQZ-Ⅲ三路质子混气系统	控制方式	D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
	流量规格	0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）
	线性	±1%F.S
	准确度	±1%F.S
	重复精度	±0.2%F.S.
	响应时间	≤2sec
	耐压	3MPa
	气路通道	3通道（根据客户需求）
	针阀	316不锈钢
	管道	Φ6mm不锈钢管
	接口	SwagelokΦ6mm

TAG:小型CVD系统 
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