1200℃滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉，混气系统，真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃，通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。

产品用途：

高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备

主要参数

炉体结构：双层炉壳、配风冷系统

电源电压：AC220V 50/60Hz；

设计功率：4KW

炉管材质：高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小

炉管尺寸：Φ40/60/80/100*1200mm

加热系统：加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2，表面负荷高、经久耐用

加热区长度：440mm

恒温区长度：200mm

工作温度：≤1150℃

最高温度：1200℃

升温速率：10℃/min

温控系统：温度控制采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能30段升降温程序

测温元件：N型热电偶

恒温精度：±1℃

混气系统：三路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制

内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀

管路采用不锈钢管，接口为Φ6卡套

每路气体进气管路配有不锈钢针阀

通过控制面板上的旋钮来调节气体流量

流量规格：0~1SLM

流量精度：±1.5%

极限真空：6.0×10-5Pa

工作真空：7.6×10-4Pa

标准配件：数显式真空压力表；可选高真空系统及真空计，压力控制系统等

可选配件：混气系统,中、高真空系统，各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪。